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中文版LabSolutions的數(shù)據(jù)導(dǎo)出方法

ACDLabs CN
2022.1.11

中文版LabSolutions的數(shù)據(jù)導(dǎo)出方法如下:

在LabSolutions數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng)里，輸入用戶名和密碼后，選擇處理工具 選擇再解析，雙擊點(diǎn)開(kāi)，界面如下：

進(jìn)入再解析后，選擇“數(shù)據(jù)處理”，選中并雙擊需要導(dǎo)出的數(shù)據(jù)文件（如未處理過(guò)的數(shù)據(jù)，可在LabSolutions系統(tǒng)中先進(jìn)行處理后保存，也可在ACD軟件中再次進(jìn)行數(shù)據(jù)處理）。

然后鼠標(biāo)右鍵選擇導(dǎo)出文件——數(shù)據(jù)文件

在新彈出窗口右下角選擇輸出路徑(

輸出路徑選擇好之后，

ACD軟件標(biāo)峰：

選擇ACD軟件中Spectrus Processor，左上角選擇上述導(dǎo)出數(shù)據(jù)所在文件路徑，可選擇單個(gè)或多個(gè)數(shù)據(jù)文件。

導(dǎo)入數(shù)據(jù)文件后，跳出以下對(duì)話框，右上角僅勾選LC Trace

打開(kāi)數(shù)據(jù)文件后，積分（自動(dòng)積分是對(duì)所有較明顯的峰進(jìn)行積分，若要除去不需要積分的峰，選擇手動(dòng)積分，單擊目標(biāo)峰即可刪除。設(shè)置基線積分是根據(jù)需要設(shè)定一定的基線高度進(jìn)行積分），如下圖：

積分完成后，選擇菜單欄View→Tables→Peaks，顯示標(biāo)峰對(duì)話框，如下圖:

對(duì)話框中會(huì)顯示峰名稱、保留時(shí)間、峰面積、峰面積百分比、峰寬等信息，雙擊Name即可修改峰名稱，修改名稱后對(duì)話框如下：

注：當(dāng)一個(gè)峰里面包裹了2個(gè)雜質(zhì)，峰命名時(shí)需使用“1+ 2”的形式，加號(hào)兩邊必須留一個(gè)空格，否則軟件不能識(shí)別出兩個(gè)雜質(zhì)。

峰命名完成后，選擇Edit/Show Chromatogram Parameters進(jìn)入方法參數(shù)設(shè)置，彈出HPLC Parameters對(duì)話框，對(duì)每張圖譜進(jìn)行梯度、柱溫、流速、流動(dòng)相pH等參數(shù)設(shè)置，如下圖：

注：第一張圖譜參數(shù)設(shè)置完成后，可在HPLC Parameters界面點(diǎn)Save保存參數(shù)，命名，下一張圖譜參數(shù)直接點(diǎn)Load打開(kāi)保存的參數(shù)，在此參數(shù)基礎(chǔ)上修改更便捷。

方法參數(shù)設(shè)置完成后，

ACD軟件模擬：

按住“Ctrl”鍵，在Processor界面選中已完成標(biāo)峰的需要進(jìn)行模擬的所有數(shù)據(jù)，單擊菜單欄中標(biāo)有LC的峰型圖標(biāo)（下圖中紅色圈出）

根據(jù)需求選擇模式（可選單因子或兩因子建模，若需要三因子模型，則選其他模式），

彈出數(shù)據(jù)整合對(duì)話框，在對(duì)話框內(nèi)選擇HPLC Parameters輸入合適的儀器參數(shù)“Dwell Volume”、“Observed t0”以及“at a Flow Rate of”

設(shè)置完成后

通過(guò)調(diào)整梯度可以看到梯度（或柱溫、流速等其他色譜參數(shù)）的優(yōu)化空間，選擇最優(yōu)的條件，進(jìn)行實(shí)驗(yàn)確認(rèn)即可。

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