Park NX-Mask是一款用于修復(fù)高端EUV掩膜的創(chuàng)新型機臺。Park NX-Mask 采用最新的原子力顯微鏡技術(shù)，配有新一代的光罩修復(fù)系統(tǒng)，用于解決隨著器件尺寸縮小和光掩膜復(fù)雜性增加帶來的新式挑戰(zhàn)。從自動缺陷檢測到缺陷修復(fù)再到修復(fù)驗證的一站式解決方案為您提供了前所未有的修復(fù)效率，讓您的研究工作事半功倍。

- 無任何類型的缺陷損壞和修復(fù)風(fēng)險

- 兼容雙EUV光罩盒

- 用于定位缺陷和修復(fù)后驗證的多效合一型解決方案

使用AFM探針安全可靠地修復(fù)缺陷

來自 EUV 光源的錫 (Sn) 顆粒等碎片可能會落到光罩上并降低其光反射率，導(dǎo)致設(shè)備不能進行精確地壓印。Park NX-Mask 利用其成熟的納米機械 AFM 技術(shù)，以絕對安全可靠的方式發(fā)現(xiàn)并去除外來顆粒、修正復(fù)雜的圖案缺陷。與傳統(tǒng)的光罩修復(fù)系統(tǒng)相比，Park NX-Mask能在不造成任何損壞或擾亂光罩表面的情況下精準(zhǔn)執(zhí)行修復(fù)。

安全性能

- 無光束靜電

- 無化學(xué)使用

- 無真空要求

卓越性能

- 納米級分辨率和修復(fù)精度

- 在同一系統(tǒng)可實現(xiàn)檢測掃描，到修復(fù)，到驗證的功能

- 經(jīng)濟型高品質(zhì)低成本

用于定位缺陷和修復(fù)后驗證的非接觸原子力顯微鏡技術(shù)

首先，Park NX-Mask 利用其獨有的非接觸式 AFM 技術(shù)進行全方位掃描以確定缺陷位置。此技術(shù)安全高效。在全方位掃描過程中，Park NX-Mask 不僅能精確計算缺陷數(shù)量并且精準(zhǔn)定位缺陷位置，還能獲悉每種顆粒和缺陷的各類信息。 修復(fù)后，Park NX-Mask采用AFM真正非接觸式技術(shù)進行修復(fù)后的驗證，生成納米級3D形貌和其他關(guān)鍵性的計量數(shù)據(jù)，如表面粗糙度。

帕克 NX-Mask 掩模修補系統(tǒng) 定位缺陷由Park帕克原子力顯微鏡為您提供，如您想了解更多關(guān)于帕克 NX-Mask 掩模修補系統(tǒng) 定位缺陷 報價、型號、參數(shù)等信息，歡迎來電或留言咨詢。

注：該產(chǎn)品未在中華人民共和國食品藥品監(jiān)督管理部門申請醫(yī)療器械注冊和備案，不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途。